1 октября АО «Ретикл» представило доклад по рентгеновской литографии на форуме «Микроэлектроника 2026» в Сириусе.

В рамках научной программы форума с докладом «Исследование преломляющей оптики в рентгеновской литографии» выступил генеральный директор компании Дюжев Николай Алексеевич. Доклад посвящен исследованию применения киноформных рефракционных линз в рентгеновской литографии для преодоления дифракционного предела разрешения. В докладе сопоставляются мировые разработки (включаяHigh-NA сканеры ASML) с отечественными проектами, таким как ТНК «Зеленоград». Также приводятся результаты моделирования и практики изготовления составныхлинз.

Участие АО «Ретикл» в форуме подчёркивает активную роль компании в проведении передовых исследований и разработке высокотехнологичных решений, направленных на развитие отечественного микроэлектронного машиностроения и обеспечение технологического суверенитета страны.